麦克罗伊重返大师赛荣耀之地:卸下千斤重担

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第二项挑战:核心技术的“代差”与“追赶”在28nm以上成熟制程,国产工具已基本满足使用需求。但在7nm、5nm乃至3nm先进制程领域,国际巨头凭借数十年积累的算法模型、物理效应库与工艺数据构筑了极高技术壁垒。国产工具在精度、速度与收敛性方面仍存在明显差距。

Kerry Wan/ZDNETFollow ZDNET: Add us as a preferred source on Google.

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